曝光显影
1、蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。此外，即使在通过使用感测构件来执行控制的情况下，如果显影辊的传送偏置或旋转数量改变，则由于下游中的显影辊与感光构件之间的显影条件也需要同时受控，因此控制变得复杂。
2、曝光就是光圈、快门和感光度ISO的组合。
其中光圈和速度联合决定进光量，ISO决定ISOCCD/CMOS的感光速度。
3、显影包括正显影和反转显影。
正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。
（1）圆网上胶后，烘干时间过短或温度偏低，经曝光后的感光胶层由于未能达到完全光敏聚合，当浸水显影时，被曝光的胶层也扩散，并溶解于水，使整个园网胶层剥落，进而失去原有的花纹。
显影液的成分与功能.一般显影液由显影剂、保护剂、促进剂和抑制ji组成.a.显影剂 米妥尔：显影速度快,反差小,受温度影响小.对ben二酚：显影缓和,反差大,受温度影响大.菲尼酮：损耗低,用量小,易保存,易产生灰雾.b.保护剂：无水亚硫酸钠 在显影液中Na 2SO 3先与氧气化合,防止了显影剂的氧化,且有溶解银盐的的作用,有微粒效果.c.促进剂：无水碳酸钠.在显影中它能产生酸性物质xiù氢酸,起到妨碍显影剂的作用,故用Na 2SO 3增加碱性.d.抑制ji：xiù化钾.它可防止未曝光银盐还原成银而生成灰雾.
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金属蚀刻加工工艺过程为加工材料通过曝光显影工序、将产品的图形转移到金属钢片上
把要蚀刻的金属板接在电源的正极，放平后将喷淋器接在电源的负极，喷出的盐水为导电液，进行电解，达到蚀刻的目的。
电蚀刻是利用金属在以自来水或盐水为蚀刻主体的液体中发生阳极溶解的原理，（电解的作用下）将金属进行蚀刻，接通蚀刻电源，从而达到蚀刻的目的。现在市售的电解蚀刻机都是手动喷淋式的，并且都是以盐水为蚀刻溶液，功率有大小。
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曝光显影直接决定蚀刻图案的准确性，因此在菲林的制作上，需要非常准确和清晰。操作人员要规范作业，避免图案模糊或者移位影响产品品质。
金属蚀刻加工中，曝光显影是保证图形准确的重要步骤，在其中需要用到感光胶进行，后面将感光胶处理干净完成曝光显影，然而蚀刻加工厂家在实际操作中会遇到感光胶脱不净的情况